Fotopolimerisasi kolesteril akrilat menggunakan metode UV curing telah berhasil dilakukan hingga memperoleh fasa nematik kiral, yang memiliki struktur stabil pada suhu yang ditentukan. Fotopolimerisasi monomer akrilat dilakukan dengan pemaparan sinar UV bersumber dari lampu merkuri berdaya 55 watt selama 5, 10, 15, 20, dan 25 menit. Hasil karakterisasi FTIR menunjukkan fotopolimerisasi berlangsung sempurna setelah 10 menit yang ditandai hilangnya gugus C=C pada bilangan gelombang 1624.06 cm-1. Difraktogram XRD menunjukkan pola difraksi XRD fasa nematik kiral (kolesterik) dengan sudut 2θ pada 15o-20o dan jumlah puncak difraksi berbeda-beda untuk perlakuan 5, 10 dan 15 menit. Data SEM menunjukkan struktur morfologi berbentuk balok dan memiliki arah orientasi yang sama, kecuali pada menit ke 15 arah orientasinya tidak beraturan. Data-data spektroskopi tersebut menunjukkan lamanya waktu pemaparan sinar UV pada proses fotopolimerisasi berpengaruh terhadap karakteristik polimer kolesteril akrilat.