Dalam rangka pembuatan struktur divais untuk aplikasi surface plasmon resonance telah dilakukan proses penumbuhan ZnO nanorods pada permukaan substrat kaca yang terlapisi lapisan tipis Au. Proses penumbuhan ZnO nanorods ini dilakukan dengan menggunakan metode hidrotermal melalui dua tahapan utama, yaitu proses pembibitan (seed layer) dan penumbuhan (growth). Proses seed layer menggunakan larutan yang terdiri dari Zinc Acetate Dihydrate (Zn(O2CH3)2(H2O)2), Diethylamine (C4H11N), dan Etylene Glycol Monomethyl (C4H10O2) dengan konsentrasi 0.3M, dilanjutkan dengan proses dip coating selama 5 menit, proses pengeringan, dan proses annealing. Pada proses penumbuhan ZnO, digunakan larutan yang mengandung Zinc Nitrate Tetrahydrate (Zn(NO3)2 . 6H2O), Hexamethylene-tetramine (C6H12N4), dan Aqua DM dengan konsentrasi 0.05M. Waktu penumbuhan ZnO divariasikan 3 parameter, yaitu 2 jam, 4 jam, dan 6 jam, pada suhu 95⁰C yang diikuti proses annealing pada suhu 500⁰C selama 1 jam. Struktur ZnO dikarakterisasi menggunakan field emission scanning electron microscopy (FESEM), energy dispersive spectroscopy (EDS), x-ray diffraction (XRD), dan fourrier transmition infra red (FTIR). Hasil FESEM menunjukkan bahwa diameter ZnO nanorods yang terbentuk akan semakin besar seiring semakin panjang waktu penumbuhan. Waktu penumbuhan 2 jam dan 4 jam menghasilkan ZnO nanorods dengan diameter di bawah 100 nm, di mana ZnO dengan diameter 29±7 nm berhasil ditumbuhkan dengan waktu penumbuhan 2 jam. Berdasarkan hasil EDS dapat diketahui bahwa semakin lama waktu penumbuhan maka persentase Zn semakin meningkat, sementara persentase O menurun. Pada karakterisasi XRD terlihat struktur kristal yang heksagonal dengan semakin meningkatnya intensitas puncak bidang (0,0,2) yang dihasilkan seiring semakin lama waktu penumbuhan. Hal ini mengindikasikan bidang kristal yang semakin searah. Hasil FTIR menunjukkan bahwa absorbsi infra red ikatan Zn-O berada disekitar panjang gelombang 540 hingga 544 cm-1. Hasil pengujian SPR menunjukkan bahwa fenomena SPR terkonfirmasi dengan munculnya penurunan reflektansi pada area total internal reflection. Namun demikian, perlu menjadi perhatian bahwa waktu penumbuhan ZnO harus diatur dalam waktu penumbuhan yang sangat singkat. Hal ini karena semakin lama waktu penumbuhan akan menghasilkan ZnO rods yang besar dan panjang sehingga dapat mengakibatkan ketebalan substrat lebih dari 100 nm. Lapisan ZnO nanorods yang tebal berpotensi menghilangkan superposisi antara gelombang sinar datang (laser) dengan gelombang evanescent yang dapat berakibat tidak terjadinya fenomena SPR.